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第1623章 突破阿贝极限（第2页）

他顿了顿，语气变得更加严肃：“我知道你们承受着巨大的压力，但请相信，国家也在全力支持你们。

这条路不好走，但只要坚持下去，终有一天会看到曙光。”

“我们会的。”

常浩南郑重地点头。

三人站在“光刃”

前，沉默了几秒。

随后，栾文杰转身准备离开。

张汝宁送他到门口，忽然想起什么似的，低声说道：“对了，关于那份B2碎片的事……我们最近在分析时发现了一些奇怪的数据波动，似乎和某种未知的材料结构有关。”

栾文杰脚步一顿：“哦？”

“我们还没完全破解，但初步推测，那可能是一种新型的二维晶体结构，具备极高的电子迁移率和热稳定性。”

张汝宁压低声音，“如果这个推测成立，或许可以为我们未来的芯片架构提供新的思路。”

“听起来很有意思。”

栾文杰微微一笑，“回头我会安排专人跟进这件事，如果你们需要外部资源，尽管提。”

“明白。”

随着栾文杰一行人的离去，实验室恢复了原本的安静。

常浩南走到“光刃”

旁，轻轻摩挲着操作面板，仿佛在与它对话。

“你觉得他看得懂吗？”

张汝宁凑过来问。

“懂不懂不重要。”

常浩南淡淡一笑，“重要的是，他知道该怎么讲。”

张汝宁一愣，随即也笑了。

……

与此同时，在千里之外的首都某栋大楼内，一份由栾文杰亲自撰写的内部报告正被送往更高层。

报告标题赫然写着：

《关于我国半导体产业核心技术突破现状及未来发展路径的战略建议》

正文第一段写道：

>“当前全球半导体行业正处于剧烈变革期，硅基CMOS工艺逼近物理极限，传统制程微缩路径逐渐失效。

在此背景下，我国科研团队已取得多项关键突破，包括但不限于：30nm级光刻实验平台的搭建、基于ArF-193nm系统的双重曝光工艺验证、以及面向未来10nm以下节点的‘光刃’原型机研制……”

报告末尾，一段总结性陈述尤为引人注目：

>“综上所述，我国已初步建立起一套具有自主知识产权的先进制程研发体系，并展现出向更高端领域迈进的能力。

建议尽快启动‘新一代光刻技术专项攻关计划’，集中优势资源，推动从实验室走向工程化、从技术验证走向产业落地的关键跃迁。”

文件最终落款处，一枚红色印章缓缓盖下。

……

数日后，一场秘密会议在京召开。