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第3314章 全球SPIE微光刻会议（第2页）

这个观点，有着这些微光刻领域专家们的真实的想法，更有着nikon和为了能继续保持在这个领域的权威和垄断，以及已经砸进去几十亿美元的游说和新闻引导。

在这个会议上，林博士也参加了这场会议，会议的主持方要求他言‘浸润式微影技术’。

“由于na已经大于.9，并且随着na的进一步增加而回报递减，浸没式光刻可能是额外节点的关键。

浸没式光刻的关键是具有在光学波长中具有足够的透射性，并且对透镜和抗蚀剂表面是惰性的。

开始研究浸没流体是相对便宜的。

一旦确定了流体，就必须解决许多问题；即，抗蚀剂的脱气，曝光或扫描过程中流体折射率的不均匀、流体的摩擦导致的扫描度减慢，以及潮湿环境的混乱。

——”

这时候赵长安手里面拿的一份文件，就是在这次全球spIe微光刻会议上，各个专家级权威的言。

其中他看了林博士的言的时间最长，对于别的专家的言，基本上都是快的浏览。

对于赵长安前一世这个会议上林博士的言，赵长安没有看到过，因为那个时候他怎么可能对这种枯燥的技术言感兴趣。

而现在他则是翻来覆去的看这篇很短的言，看了半天，感觉他好像啥都没有说。

其实在这个会议上，真正最具备含金量的在赵长安看来，是mIT研报告里面提到的那句‘在193n没的情况下157n题常见的普遍困难都不存在，几乎等同于现今处于干式介质中193n进式光刻机效果。

’

这句话里面暗含着一个重大的，如同窗户纸一样，却直到3年7月才开始被setech（半导体制造技术联盟，成员包括防部、能源部、国家实验室、国家科学委员会、国家标准及技术院、mIT，得州大学，asmL，——）捅破。

就是既然193n浸没式液体之中既然依然是那么的稳定，为什么一定要使用难题很多的157n为浸没式光源，为什么就不能依然用193n

而现在所有人都这么认为，既然193n干式介质就已经很稳定，为什么要脱了裤子放屁，要把它放在液态流体之中多此一举？

这里面唯一所欠缺的一个几乎这些技术人员都知道的常识要素，没有被他们考虑进去，就是液体和干式介质之间，不同的折射率。

实际上在赵长安的前一世，林博士在自传中说到，他在不久前的spIe微光刻，表了很具有重量级的言。

“我在研讨会表用水配合193纳米，能比干式的157纳米多增进一世代，而且比后者容易开。

结果全场轰动。

我演讲后，所有交谈的时间大家都在讨论这个题目。”

实际上，似乎真的没有这个事实，因为他的言人家留有录音，这个可真是做不得假。

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